氮原子有5个价电子，其中有3个未成对，当它与氢原子化合时，每个氮原子可以和3个氢原子通过极性共价键结合成氨分子，氨分子里的氮原子还有一个孤对电子。氨分子的空间结构是三角锥型，极性分子。
工业制法
工业上氨是以哈伯法通过N2和H2在高温高压和催化剂存在下直接化合而制成：
N2+3H2?2NH3 △rHθ =-92.4 kJ/mol （反应条件为高温、高压、催化剂）
一般为铁触媒作催化剂，压强20-50 mPa，温度450℃左右。
泄漏应急处置措施
⑴ 少量泄漏。
撤退区域内所有人员。防止吸入蒸气，防止接触液体或气体。处置人员应使用呼吸器。禁止进入氨可能汇集的局限空间，六氟化硫，并加强通风。只能在保证安全的情况下堵漏。泄漏的容器应转移到安全地带，并且仅在确保安全的情况下才能打开阀门泄压。可用砂土、蛭石等惰性吸收材料收集和吸附泄漏物。收集的泄漏物应放在贴有相应标签的密闭容器中，六氟化硫气体，以便废弃处理。
⑵ 大量泄漏。
疏散场所内所有未防护人员，并向上风向转移。泄漏处置人员应穿上全封闭重型防化服，佩戴好空气呼吸器，在做好个人防护措施后，六氟化硫多少钱，用喷雾水流对泄漏区域进行稀释。通过水的稀释，使现场的氨渐渐散去，利用无火花工具对泄漏点进行封堵。
向当地和“119”及当地、部门报警，报警内容应包括事故单位；事故发生的时间、地点、化学品名称和泄漏量、危险程度；有无人员伤亡以及报警人姓名、电话。
高纯氨应用原理是什么？
【1】 Ga(CH3)3+ NH3 → GaN + 4CH4；
这个反应是制造发光二极管（LED）外延芯片的氮化的基 础，反应在昂贵的 MOCVD （有机金属气相沉积）设备上完成。
【2】 3SiH4 + 4NH3→ Si3N4 + 12H2；
这个反应是制造氮化硅（Si3N4 ）的基础，六氟化硫厂家，由（SiH4 ）和高纯氨在较高温度下，在化学气相沉积（CVD）设备中进行反应，此反应也需要相当数量的高纯氨气。
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