山西锅炉清洗-蓝星高压水射清洗公司-导热油锅炉清洗

高压清洗多晶硅是微电子行业、半导体行业、光伏行业的基础材料，在多晶硅生产过程中，还原炉钟罩表面上会沉积一定厚度的多晶硅副产物、硅粉等，在下一炉生产时会影响还原炉钟罩的反射效率、产品质量，所以多晶硅棒生长完成并从还原炉内拆除完之后，需要对还原炉钟罩内壁进行清洗烘干，保证其内部的干燥洁净。

在国内多晶硅厂家生产初期，还原炉钟罩清洗的主要方式是人工清洗，将还原炉钟罩放到固定位置后，清洗人员配好清洗液，电厂锅炉化学清洗，穿戴好全套的防护用品后，用高压水喷射到内壁上对附着物依次进行纯水清洗和清洗液清洗，对部分清洗不干净的部位用酒精擦拭，再用高温压缩空气进行烘干。

高压清洗反应釜是工业生产中常见的反应容器

用于实现工艺要求的加热、蒸发、冷却及低高速的混配功能，也是制备胶体物质的常用设备，在生产胶体时，反应釜在使用后，会在内壁上残留胶体反应物，残留物质的产生会降低产品质量，在经过3~4次的反应周期后，锅炉清洗方案，残留胶状物会在内壁及搅拌叶上逐渐产生坚硬的凝块，影响设备运行，增加耗能、腐蚀反应釜内部，减少反应釜使用寿命，更甚时会产生反应釜生产安全隐患。

不论是立式反应釜、卧式反应釜，由于其内部带有搅拌轴、搅拌叶等结构，导热油锅炉清洗，增加了反应釜清洗难度，现有的清洗方式多采用强碱、强酸等化学用品浸泡清洗，这样的清理方法周期太长，对于粘附性比较强的胶体物料清洗效果不佳，后续需要工人进去清理壁上和搅拌叶上面的胶块，且采用化学清洗方式需要大量化学清洗剂，投入成本高；清洗后需要使用大量的水进行冲洗，耗水量大；国内对工业环保的要求越来越严格，化学清洗后的废液要经过特殊处理后方能排放，因此企业正在寻求、环保的反应釜清洗方式。

对于反应釜内部胶状物的清洗，可以选择使用大功率高压清洗机，利用高压水射流巨大的打击能力，快速剥离、击碎、冲洗反应釜内部污垢，与化学清洗方式相比，山西锅炉清洗，高压清洗机可随时进行清洗，无需等待浸泡时间，因其是以水为清洗介质，无需添加清洗剂，无需进行二次清洗，具有无腐蚀、无污染、无损伤的优势。

高压水清洗机应用细节：

1、临界压力。当水射流冲击材料时，有一个喷射压力将打破材料。当水压小于地球重力时，材料只会发生塑性变形，表面基本不会损坏。当水压超过这个压力时，材料会严重损坏。水射流压力能对材料造成明显的损伤，称为阈值压力。在高压水射流清洗作业中，需要选择阈值压力以上的射流来实现材料剥离。2、合理压力。当喷雾压力超过阈值时，单位面积或单位体积的切割或破碎能量会随着喷雾压力的增加而逐渐减少，但当喷雾压力继续增加时，消耗的能量会增加，这就是合理压力。3、目标距离。目标间距是指喷嘴和基底之间的喷射距离，目标之间的距离并不是越近越好，射流理论变化有三个阶段：初始、基本和消除。根据射流理论，射流在射流的基本截面上具有较大的速度和动压。因此，要在底座部分找到理想目标距离，以达到理想清洁效果。

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