电极真空镀膜加工平台-半导体研究所-甘肃真空镀膜加工平台

真空镀膜加工平台——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究，甘肃真空镀膜加工平台，兼顾重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

 近年来， DLC膜的制备工艺发展迅速，已经开发出多种制备方法，同时DLC薄膜真空镀膜设备市场需求也增大。这些方法大体分为两大类：物理气相沉积法( physical vapor deition简称PVD)、化学气相沉积法( chemical vapor deition简称CVD)及等离子增强化学气相沉积法(PECVD)。另外电解和聚合物热解是近年来出现的新方法

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  真空镀膜设备在运行时，是需要电源给其靶材和基材供电的，电极真空镀膜加工平台，比如用在磁控溅射真空镀膜设备里面的磁控靶材，就需要配置磁控电源，磁控电源有进口和国产的。用在多弧离子真空镀膜设备上的电源，成为电弧电源，同时也有人称之为阴极电源和偏压电源。

     电弧电源是电弧离子镀膜中靶材蒸发和电离的实现必须依靠电弧电源提供能量，在实际镀膜过程中，该电源要能自动检测灭弧现象并自动引弧，保证镀膜过程中的连续性和膜层的均匀性；此外，电弧电源的稳弧性能尤其是稳弧电流对膜层的一致性、效率性和光洁度影响很大。一台多弧离子镀膜机所配电弧电源少则几台，MEMS真空镀膜加工平台，多则十几台，甚至几十台。的工作对整台设备的性能至关重要。电弧电源从传统电源式，经过采用可控硅技术，发展到现在的高频逆变式。

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同传统电磁式和可控硅技术制作的电弧电源相比较，高频逆变电弧电源主要具有以下特点：

1. 体积缩小，仅是旧式电源的几分之一；相应的电源重量也　仅是传统电源的几分之一到十几分之一。

2.电源效率明显提高，比旧式电源的效率大约提高20%∽30%左右。

3.操作轻便，电流调节精度较高，稳流性能好，有利于控制膜厚及保证膜厚的重复性。

4. 采用高频逆变方式的电弧电源纹波较小，加上其响应速度远远高于旧式电源，在相同弧源和工作条件下，使用高频逆变电弧电源有利于提高电弧的稳定性，减少灭弧次数。

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