光化学及光催化氧化法是目前研究较多的一项g级氧化技术。所谓光催化反应，是在光的作用下进行的化学反应。光化学反应需要分子吸收特定波长的电磁辐射，受激产生分子激发态，然后会发生化学反应生成新的物质，或者变成引发热反应的中间化学产物。光化学反应的活化能来源于光子的能量，在太阳能的利用中光电转化以及光化学转化一直是十分活跃的研究领域。光催化氧化技术利用光激发氧化将O2、H2O2等氧化剂与光辐射相结合。所用光主要为紫外光，包括uv-H2O2、uv-O2等工艺，可以用于处理污水中CHCl3、CCl4、多氯l苯等难降解物质。另外，在有紫外光的Fenton体系中，紫外光与铁离子之间存在着协同效应，使H2O2分解产生羟基自由基的速率大大加快，促进有机物的氧化去除。
光催化装置光催化装置光催化装置光催化装置
光催化氧化?设备作业条件
设备作业条件：
设备作业是气体环境温度在摄氏60℃以下、湿度在90%以下、无固体粉尘，处理的成分应当仅仅气体，满意以上三个条件时可以到达j的净化效果，如湿度及温度过高需作预处理，在废气处理过程中不行有固体粉尘及很多水蒸汽进入设备，这么会直接影响除臭效果，乃至没有用果，西安光催化装置，光催化氧化停留时间控制在合理规模以内。
除臭效果和除臭功率：
可以去掉各种有机废气如烃类、醛类、酚类、醇类、硫醇类、苯类、氨类、氮氧化物、硫化物以及其它VOC类有机物及无机物。对原子有机物如卤代烃、染料、含氮有机物、有机磷s虫剂也有的去掉效果，只需到达必定的反响时间和反响环境配比即可到达氧化，可以说氢氧自由基的氧化目标简直没有选择性，能跟任何 现有物质反响。除臭净化效果可达96%以上，光催化装置厂，除臭效果大大超越国家1993年公布的恶臭物质排放规范（GB14554-93）。
光催化氧化是在外界可见光的效果下发作催化效果，光催化氧化反响是以半导体及空气为催化剂，以光为能量，将有机物降解为CO2和H2O。选用的半导体是目前反响功率z高的纳米TiO2光催化剂，经蜂窝陶瓷载附特别处理后运用，到达抱负效果。
在光催化氧化反响中，经过紫外光照耀在纳米TiO2光催化剂上发作电子空穴对，与外表吸附的水份（H2O）和氧气（O2）反响生成氧化性很活波的羟基自 由基（OH-）和超氧离子自由基（O2-、0-）。可以把各种废臭气体如醛类、苯类、氨类、氮氧化物、硫化物及其它VOC类有机物、无机物在光催化氧化的 效果下复原成二氧化碳（CO2）、水（H2O）以及其它无d无害物质，一起具有除臭、消毒、灭菌的成效，因为在光催化氧化反响过程中无任何添加剂，所以不会发作二次污染。
除臭设备中的纳米光催化触媒资料（GC-100）是一种吸收光能后，能在其外表发作催化反响的物质，当特定纳米波长的紫外光照耀光催化触媒资料（GC-100）时，其外表发作光催化氧化复原反响。光催化触媒资料（GC-100）吸收光子后在其外表发作电子（E—）和空穴（H+），将吸收的光能转化成化学能，即具有光催化效果。
当光催化触媒资料（GC-100）与空气中的水触摸时，外表就吸附H2O、O2、OH—，H2O、 OH—被空穴（H+）所氧化，O2被电子（E—）复原，反响室如下：
H2O+ H+ OH. + H+ O2+ E— O2—.
OH—基团的氧化能力较强，使有机物氧化，终分化为水和CO2。
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1、降解速度快，一般只需要几十分钟到几个小时即可取得良好的处理效果。
2、降解无选择性，几乎能降解任何有机物，尤其适合于氯代有机物、多环芳烃等。
3、氧化反应条件温和，投资少，光催化装置安装，能耗低，在紫外光照射或阳光下即可发生光催化氧化反应。
4、无二次污染，有机物被氧化降解为CO2和H2O等无害物质。
5、应用范围广，几乎所有的污水都可以采用。
光电催化氧化技术反应优缺点
优点：光电催化氧化技术易分离和重复使用。反应条件温和，通常在常温、常压进行，易操作。不会产生二次污染。
缺点：光生电子和空穴对的转移速度慢，复合率较高，光催化装置原理，导致光催化效率低，反应转化率较低。通常只能用紫外光活法，太用光利用率低。
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