2006年，Cliche等人利用电学反馈的方法将MHz量级的半导体分布式反馈激光器(distributed feedback laser，DFB)降低到kHz量级;2011年，Kessler等人利用低温高稳单晶腔结合有源反馈控制获得40 MHz的超窄线宽激光输出;2013年，Peng等人利用腔外法珀腔(Fabry-Perot， FP)反馈调节的方法获得15 kHz线宽的半导体激光输出，电学反馈方法主要利用的是Pond-Drever-Hall稳频反馈使得光源激光线宽得到压缩。2010年，Bernhardi等人在氧化硅基底上制作1 cm的掺铒氧化铝FBG，获得线宽约为1.7 kHz的激光输出。同年，Liang等人针对半导体激光器利用高Q回音壁谐振腔形成的后向瑞利散射自注入反馈进行线宽压缩，如图 1所示，终获得160 Hz的窄线宽激光输出。
激光工作介质 激光的产生必须选择合适的工作介质，可以是气体、液体、固体或半导体。在这种介质中可以实现粒子数反转，以制造获得激光的必要条件。显然亚稳态能级的存在，对实现粒子数反转世非常有利的。现有工作介质近千种，可产生的激光波长包括从真空紫外道远红外，非常广泛。 为了使工作介质中出现粒子数反转，必须用一定的方法去激励原子体系，使处于上能级的粒子数增加。一般可以用气体放电的办法来利用具有动能的电子去激发介质原子，称为电激励；也可用脉冲光源来照射工作介质，称为光激励。
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