激光工作介质 激光的产生必须选择合适的工作介质，可以是气体、液体、固体或半导体。在这种介质中可以实现粒子数反转，以制造获得激光的必要条件。显然亚稳态能级的存在，1530nmDFB激光器，对实现粒子数反转世非常有利的。现有工作介质近千种，可产生的激光波长包括从真空紫外道远红外，非常广泛。 为了使工作介质中出现粒子数反转，1370nmDFB激光器，必须用一定的方法去激励原子体系，使处于上能级的粒子数增加。一般可以用气体放电的办法来利用具有动能的电子去激发介质原子，称为电激励；也可用脉冲光源来照射工作介质，称为光激励。
DFB激光光源采用国外高l性能DFB激光器芯片、独l特设计的ATC和APC电路以及隔离控制，保证了极高的功率及波长稳定性。该款光源主要应用于时钟频率计量领域，可搭配电光调制器使用，加载时间频率信号，通过光纤进行信号传输;也可用于850nm波段的光学器件的测量，比如高速Si-PIN/APD光探测器、CMOS、CCD等器件的响应度或响应时间的测试
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