耳机配件真空电镀报价-大岭山耳机配件真空电镀-瑞泓科技公司

真空蒸镀又称热蒸发蒸镀法

工艺关键词:高温溶解蒸发、沉积后覆膜

依薄膜材料之加热方式之不同，真空蒸镀又可分为间接加热型与直接加热型。

1. 间接加热型:只针对蒸发源加热，间接使其上之薄膜材料因热而蒸发;

2. 直接加热型:利用高能粒子(电子束，电浆或镭射)或高频，直接使置于蒸发源上之薄膜材料升温而蒸发;

为避免蒸发源(容器)随着薄膜材料一同被蒸发，蒸发源材质的熔点一定要高于薄膜材料的沸点。

ＰＶＤ镀膜技术的特点：

1 ．膜层与物件表面的结合力强，保色更加持久，耐磨性强

2 ．离子的绕射性能好，能够镀形状复杂的物件

3 ．膜层沉积速率快，生产效率g

４.可镀膜层颜色种类广泛

５.稳定性高、环保

ＰＶＤ镀膜的整个工艺流程：ＱＡ品检—上挂—清洗—烘烤—电镀—出炉—下架—全检

我司真空镀膜设备每完成200个镀膜程序以上，就会清洁工作室一次，需用用酒精或（NaOH）饱和溶液反复擦洗真空室内壁，目的是使镀上去的膜料铝（AL）与NaOH发生反应，再用清水清洗真空室和用布沾q油清洗精抽阀内的污垢。当粗抽泵连续工作一个月，需更换新油。

方法是：拧开放油螺栓，放掉旧油，再将泵启动数秒，使泵内的旧油完全排放出来。拧回放油螺栓，加入新油至额定量，连续使用半年以上，耳机配件真空电镀价格，换油时应将油盖打开，用布擦干净箱内污垢。

真空电镀工艺可能遇到的问题及对策

1.蒸发速率对蒸镀涂层的性能影响

蒸发速率的大小对沉积膜层的影响较大。由于低的沉积速率形成的膜层结构松散易产生大颗粒沉积，为保证涂层结构的致密性，选择较高的蒸发速率是十分安全的。当真空室内残余气体的压力一定时，则轰击基片的轰击速率即为定值。因此，选择较高沉积速率后的沉积的膜内所含的残余气体会得到减小，从减小了残余气体分子与蒸镀膜材的化学反应。故，大岭山耳机配件真空电镀，沉积膜的纯度即可提高。应当注意的是，沉积速率如果过大可能增加膜的内应力，致使膜层内缺陷增大，严重时可导致膜层破。特别是，在反应蒸镀过程中，为了使反应气体与镀膜材料粒子能够进行充分的反应，可选择较低的沉积速率。当然，对不同的材料蒸镀应当选用不同的蒸发速率。作为沉积速率低会影响膜的性能的实际例子，耳机配件真空电镀哪里好，是反射膜的沉积。如膜厚为600*10-8cm，蒸镀时间为3S时，其反射率为93%。但是，如果在同样的膜厚条件下将蒸速率放慢，采用10min的时间来完成膜的沉积。这时膜的厚度虽然相同。但是，反射率已下降到68%。

2.基片温度对蒸发涂层的影响

基片温度对蒸发涂层的影响很大。高的基片温度吸附在基片表面上的残余气体分子易于排出。特别是水蒸气分子的排除更为重要。而且，耳机配件真空电镀报价，在较高的温度下不但易于促进物理吸附向化学吸附的转变，从而增加粒子之间的结合力。而且还可以减少蒸汽分子的再结晶温度与基片温度两者之间的差异，从而减少或消除膜基界面的内应力。此外，由于基片温度与膜的结晶状态有关，在基片温度低或不加热的条件下，往往容易形成非结晶态涂层。相反在较高温度时，则易于生成晶态涂层。提高基片温度也有利于涂层的力学性能的提高。当然，基片温度也不能过高，以防止蒸发涂层的再蒸发。