铭牌曝光显影加工-利成感光(在线咨询)-淮安铭牌曝光显影

东莞市清溪利成感光五金厂本厂主要做曝光显影工艺，平面、圆弧面、凹凸面、喷砂1氧2氧阳极、五金丝印.五金腐蚀等产品加工，有多年经验，铭牌曝光显影订制，有需要以上的工艺欢迎您的到来参观和洽谈，可免费打。

光刻工艺可用五个指标来衡量其效果：分辨率、灵敏度、套刻对准精度、缺陷率和硅片加工过程处理问题，其中有3个指标，分辨率、灵敏度和缺陷率是与涂胶显影的工艺精度有重要联系。

显影过程是将曝光后的光刻胶中与紫外光发生化学反应的部分除去或保留下来的过程。显影的主要过程如下：

对准曝光一曝光后烘一显影一坚膜一显影检测。

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显影的主要过程如下：对准曝光一曝光后烘一显影一坚膜一显影检测。

曝光后烘（PEB)

曝光后应尽快进行显影步骤中的烘干处理，从而有效降低驻波效应的影响，这是由于曝光过程中，入射光和反射光会

产生相互干涉，其光强会沿着胶体水平方向形成波纹形状，即驻波。

目前通常采用曝光后立刻烘干方式，即PEB ，减少驻波效应带来的影响。

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曝光显影：感光特性曲线特性曲线是指以感光胶片在感光仪中按规定的递增曝光量进行曝光，然后经显影、定影后，所得胶片的密度值(D)为纵坐标，以曝光量的对数值(logH)为横坐标，绘制成的曲线。