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坚膜（ HB Hardbake)
坚膜也称为硬烘，是对显影后的光刻胶加热烘干，促使光刻胶与硅片粘着牢固，并且没有发生形变。坚膜阶段的温度一般控制在100-120℃之间，钢材202曝光显影加工价格，若加热温度过高会使得光刻胶软化，如图4所示，并导致后期去胶困难。
一般使用热板或烘箱来控制温度变化。
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钢材202曝光显影加工圆网上胶后，烘干时间过长或温度过高。由于胶层受到烘干时间和温度的影响，胶液发生初步聚台，使原来可溶性的胶层变成不溶性的胶层，在浸水显影时，圆网花纹部分的胶层不能溶解于水而堵塞网孔。因此，烘干时间和温度必须严格控制在规定条件内。
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对准曝光
对准曝光阶段是光刻工艺的重要阶段，使用的掩膜曝光机，即光刻机，集中了光刻工艺中重要的工艺技术。
对准曝光过程通常在黄光实验室中进行。
使用的光刻机根据不同的曝光原理，分为接触式曝光，接近式曝光和投影式曝光。也可按自动化程度高低
手动
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