润州保温杯曝光显影-保温杯曝光显影定制-利成感光(推荐商家)

－微影技术

微影技术透过紫外光当光源，将绘制在光罩上的电路图形微缩投影至涂布光阻的利成上，再经过曝光显影蚀刻去除光阻等过程，在利成产生集成电路。随着制程微缩线宽缩小，光罩也变得更为精细，光源波长也需变短，以避免绕射效应产生。

过去紫外光波长一路从365nm进展到目前以ArF气体雷射达到193nm，ArF 193nm曝光机原理上可制作的小线宽为48nm，加上浸润式微影与多重曝光的搭配，众利成代工厂的制程辛苦走到7nm节点，采用多重曝光技术仅能做单一方向微缩，无法做2个方向的微缩，影响单位面积下所能容纳的晶体管数量，加以所需光罩数与制程数大幅增加，以往随着制程微缩，每芯片成本随之下降情况已不复见。

东莞市清溪利成感光五金厂本厂主要做曝光显影工艺，润州保温杯曝光显影，平面、圆弧面、凹凸面、喷砂1氧2氧阳极、五金丝印.五金腐蚀等产品加工，保温杯曝光显影公司，有多年经验，有需要以上的工艺欢迎您的到来参观和洽谈，可免费打。

显影的主要过程如下：对准曝光一曝光后烘一显影一坚膜一显影检测。

曝光后烘（PEB)

曝光后应尽快进行显影步骤中的烘干处理，从而有效降低驻波效应的影响，这是由于曝光过程中，入射光和反射光会

产生相互干涉，其光强会沿着胶体水平方向形成波纹形状，即驻波。

目前通常采用曝光后立刻烘干方式，即PEB ，减少驻波效应带来的影响。

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曝光显影工艺参数：

贴膜辊温度:100?度－110?度

贴膜机速度:1.6-2.0M/MIN?

曝光显影注意事项:?

整个贴膜程序必须在暗房中进行。

开启干膜箱必须在暗房中进行，干膜必须储在暗房中。

不合格的贴膜板需去膜刷板后重新贴膜，并在曝光之前放置15分钟。