真空除气炉公司-真空除气炉-科创真空产品

高真空除气炉的特点

科创鼎新公司生产的高真空除气炉，真空度可高达10-7Pa，可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。

高真空除气炉特点：　

①　极限真空度高；

②　控温精度高；

③　更高的升温速率；

④　更加智能化；

⑤　可真空去除产品空洞与气泡；

⑥　降低产品的氧化性；

⑦　提高工艺室的洁净度。

真空除气储存柜维护要求

真空除气储存柜，又称真空存储箱，用于各类金属材料，化工原料，半导体芯片、电路板、电子器件，电池片、电池材料等其他易氧化材料的真空存储，真空除气炉公司，防潮、防氧化。也可用于胶水的真空脱泡、除气等作用，经常在真空灌胶消气泡的工艺过程中应用。

1、放入需要保存的产品，快速抽真空到极限真空，可能逐渐回压到一个平衡值，长期保存；

2、放入保存的产品后，启动程序，真空除气炉，快速抽至真空下限值，真空除气炉哪家好，持续保压如箱内回压到上限值之后，会自动启动抽真空至下限值；

3、抽真空至下真空度后，自动充入氮气至常压，在无氧环境下保存产品。

为了提高空间的利用率，真空除气炉品牌，通常可以分为两腔，三腔，四腔，六腔体等等。根据产品的存放要求，存放时间和工艺产线要求，程序可以做不同的调整。

真空除气炉、真空存储柜的使用环境

使用环境

①　设备占地面积约：长2米，宽1.6米（约3.2平米）高1.95米；

②　电源：380 V±38 V，50 Hz±0.5 Hz，约15KW（外部电源用户自备）；

③　工件要求：无油污，无腐蚀性物质；

④　环境温度：   5 ℃ ～ 35 ℃；

⑤　相对湿度：  20%-85%；

⑥　设备应安装在通风良好的厂房内。