真空蒸镀基本原理：在真空条件下，使金属、金属合金等蒸发，真空镀膜加工，然后沉积在基体表面上，蒸发的方法常用电阻加热，电子東轰击镀料，使蒸发成气相，然后沉积在基体表面，历，真空蒸镀是PVD法中使用早的技术。
溅射镀膜基本原理：充(Ar)气的真空条件下，使气进行辉光放电，这时(Ar)原子电离成氮离子(Ar)，离子在电场力的作用下，真空镀膜手机，加速轰击以镀料制作的阴极靶材，靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。溅射镀膜中的入射离子，塑料真空镀膜，一般采用辉光放电获得，在10-2pa~10Pa范围，所以溅射出来的粒子在飞向基体过程中，易和真空室中的气体分子发生碰撞，使运动方向随机，真空镀膜，沉积的膜易于均匀。
20世纪60年代美国联合碳化物公司推出了Parylene派瑞林系列新型高分子敷型涂层材料，由于其优异的阻隔性能在防潮、防霉、防盐雾的三防涂层材料领域得到广泛应用。派瑞林原料C型、N型、D型、F型、AF4型是派瑞林聚合物的新一代衍生物，包括苯环取代和亚取代两类， 氟原子的引入能够较好地改善薄膜的电学性能和热稳定性。Parylene系列衍生物的研究主要集中在单体环二体的合成方法及薄膜的特性研究，有关薄膜制备方法的报道较少，曾有采用液态前驱体进行薄膜制备的文献报道。
钕铁硼稀土磁性材料是一种问世不久的新型强磁材料。目前国内常用两种方法进行防护，一种是传统的电镀工艺在 铁硼磁性材料表面镀上镍、锌或锡、金等。这些涂层有时会影响磁性材料的表磁等特性，有的在盐雾试验时仍不能对钕铁硼磁性材料提供有效的防护。另一种方法是用环氧树脂材料进行电泳涂敷，但电泳涂敷时工件表面必须有一挂点，挂点的修补不仅费工费时，而且质量难以保证，而Parylene涂层技术可控制涂层厚度进行无支点全涂敷防护。派瑞林（Parylene）又是一种透氧、透水汽率非常低的高分子薄膜材料，目前国外小型钕铁硼稀土磁性材料都已采用派瑞林（Parylene）进行防护。
用制备派瑞林的方法是化学气相沉积法(CVD)，反应物质在气态条件下发生空间气相化学反应，在固态基体表面直接生成固态物质，进而在基材表面形成涂层的一种工艺技术。派瑞林薄膜制备过程为环状二聚体在高温下两个相连碳碳键断裂，生成具有活性的对二亚苯单体，当其从高温环境进入室温环境的沉积室时，不稳定的单体就会聚合成膜。整个制备工艺过程分为三步：单体的汽化、裂解、在基材表面进行附着沉积。
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