1.派瑞林真空镀膜是一种在高真空下加热金属或非金属材料，使其在被镀膜件(金属、半导体或绝缘体)表面蒸发凝结形成薄膜的方法。如真空镀铝、真空镀铬等。
2.光学镀膜是指在光学零件表面涂覆一层(或多层)金属(或电介质)薄膜的工艺过程。光学零件表面镀膜的目的是为了满足减少或增加光反射、分束、分色、滤光和偏振的要求。常用的涂膜方法有真空涂膜(物理涂膜之一)和化学涂膜。
离子源类型虽多，江门镀膜，目的却无非在线清洗，改善被镀表面能量分布和调制增加反应气体能量。离子源可以大大改善膜与基体的结合强度，同时膜本身的硬度与耐磨耐蚀特性也会改善。若是镀工具耐磨层，一般厚度较大而对膜厚均匀性要求不高，可采用离子电流较大能级也较高的离子源，磁性材料镀膜，如霍尔离子源或阳极层离子源。
阳极层离子源，与霍尔离子源原理近似。在一条环形（长方形或圆形）窄缝中施加强磁场，在阳极作用下使工作气体离子化并在射向工件。阳极层离子源可以做得很大很长，特别适合镀大工件，如建筑玻璃。阳极层离子源离子电流也较大。但其离子流较发散，镀膜涂层，且能级分布太宽。一般适用于大型工件，玻璃，磨损，装饰工件。但应用于光学镀膜并不太多。
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