离子镀
在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分电离，并在气体离子或被蒸发物质离子的轰击下，将蒸发物质或其反应物沉积在基片上的方法。可将离子发生源与工作室分离，金属镀钛哪家好，克服了溅射镀膜为了持续放弧而必须保持较高的工作气压的缺陷，高能离子对衬底和沉积薄膜表面的轰击保证了薄膜的附着力和质量，是一种结合了蒸发镀膜和溅射镀膜优势的PVD技术。
根据离化方式的不同，常用的离子源有考夫曼离子源、射频离子源、霍尔离子源、冷阴极离子源、电子回旋离子源等。
磁控溅射是70年代在阴极溅射的基础上发展起来的一种新型溅射镀膜法，由于它有效地克服了阴极溅射速率低和电子使基片温度升高的致命弱点，装饰镀钛哪家好，因此获得了迅速的发展和广泛的应用.
1. 磁控溅射:
离子轰击靶材将靶面原子击出的现象称为溅射.溅射产生的原子沉积在基体(工件)表面即实现溅射镀膜.
磁控溅射的基本原理:
磁控溅射是在溅射区加了与电场方向垂直的磁场，处于正交电场区E和磁场B中的电子的运动方程，
产生原因：产品周转运输或在炉内生产时素材受到污染，产品表面有尘点、毛丝等，PVD出炉后灰尘脱落露出底材颜色。
解决方案：缩短产品在炉外停滞时间及炉内洁净度管控，洛阳镀钛哪家好，减少异物掉落在产品表面。
产生原因：主要原因是产品表面脏污，金属表面镀钛哪家好，膜层无法在产品上沉积或结合力差，在自然或人为的因素下产品表面漏出底材。
解决方案：将产品清洗干净，避免污染产品，确保表面洁净度。
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