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较为成熟的 PVD 方法主要有多弧镀与磁控溅射镀两种方式。多弧镀设备结构简单，容易操作。它的离子蒸发源靠电焊机电源供电即可工作，其引弧的过程也与电焊类似，具体地说，在一定工艺气压下，金属不锈钢镀钛价格，引弧针与蒸发离子源短暂接触，断开，使气体放电。由于多弧镀的成因主要是借助于不断移动的弧斑，在蒸发源表面上连续形成熔池，不锈钢镀钛价格，使金属蒸发后，沉积在基体上而得到薄膜层的，与磁控溅射相比，它不但有靶材利用率高，更具有金属离子离化率高，薄膜与基体之间结合力强的优点。

基片置于合适的位置是获得均匀薄膜的前提条件.

b、压强的大小. 为了保证膜层质量，压强应尽可能低Pr≦(Pa)

L表示蒸发源到基片的距离为L(cm)。

c、蒸发速率.蒸发速率小时，沉积的膜料原子(或分子)上立刻吸附气体分子，因而形成的膜层结构疏松，颗粒粗大，缺陷多;反之，膜层结构均匀致密，机械强度高，膜层内应力大.

d、基片的温度.在通常情况下，基片温度高时，吸附原子的动能随之增大，形成的薄膜容易结晶化，并使晶格缺陷减少;基片温度低时，处理不锈钢镀钛价格，则没有足够大的能量供给吸附原子，因而容易形成无定形态薄膜.

此外，多弧镀涂层颜色较为稳定，尤其是在做 TiN 涂层时，每一批次均容易得到相同稳定的金黄色，令磁控溅射法望尘莫及。多弧镀的不足之处是，在用传统的 DC 电源做低温涂层条件下，当涂层厚度达到0.3μm 时，沉积率与反射率接近，成膜变得非常困难。而且，薄膜表面开始变朦。多弧镀另一个不足之处是，由于金属是熔后蒸发，因此沉积颗粒较大，致密度低，耐磨性比磁控溅射法成膜差。


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