溅射技术:
溅射技术按产生等离子体的方式可分为:
a. 利用直流辉光放电的二极溅射;
b. 利用热丝弧光放电的三极溅射;
c. 利用射频放电的射频溅射;
d. 利用封闭跑道磁场控制辉光放电的磁控溅射.
2 磁控溅射阴极结构:
目前工业用磁控溅射装置主要是采用矩形平面磁控溅射阴极(图a)，一般使用的靶材尺寸有两种规格: VT机:长×宽×厚(450.5×120×6)mm; ZCK机: 460×100×6.圆柱形磁控溅射阴极也逐步运用到生产当中(图b)，两者相比，平面靶材的利用率只有20~30%，即利用率低.
清洗时注意不要用粗糙或尖锐的物料去擦洗产品表面，特别是镜光的，要用柔软一点的、不易脱毛的绒布去擦洗，砂钢和拉丝表面，要顺着纹路去擦，不然很容易搞花表面。
3、表面有灰尘以及易除掉污垢物的，可用绒布、清水来清洗；对于粘结剂成份，使用酒精和（、苯）擦洗。
4、表面的油脂、油、润滑油污染，用绒布擦干净以后用中性洗涤剂、或用洗涤剂清洗。
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