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LPE的硅外延层，以其良好的电学、光学及其生长特性，而在CVD无法胜任的领域应用前景诱人.目前，取得较为成功的方面有:(1)垂直沟道的场控制器件中的埋栅制造及沟道的外延再填;(2)太阳能电池;(3)超晶格器件;(4)三维集成技术 [1] .场控制器件：CVD在硅器件的埋结制造中，因自掺杂而出现埋层尺寸增加，密排栅极叉指制造也受到严重影响，而LPE因其可以消除自掺杂，1260液相设备厂商，而在这方面得到应用，尤其对硼扩散的埋栅区域的埋结制造，1260液相设备哪里有，其优点更为明显 [1] .
相平衡理论相平衡理论认为溶质在流动相和固定相之间达到平衡。分配（吸附）色谱的分离是基于样品组分在固定相和流动相之间反复多次的分配（吸附-脱附）过程，在一定温度和压力下，组分在固定相和流动相之间分配达到平衡时的浓度之比K分配系数，晋中1260液相设备，分配系数是由组分在两相的热力学性质决定的。在一定温度下，分配系数K小的组分在流动相中浓度大，先流出色谱柱。K=Cs/Cm lnK=-△Gm/RTc
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