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溅射镀膜基本原理:充(Ar)气的真空条件下,使气进行辉光放电,这时(Ar)原子电离成离子(Ar ),离子在电场力的作用下,加速轰击以镀料制作的阴极靶材,靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。 溅射镀膜中的入射离子,一般采用辉光放电获得,在l0-2Pa~10Pa范围,所以溅射出来的粒子在飞向基体过程中,金属表面镀钛厂家哪里有,易和真空室中的气体分子发生碰撞,使运动方向随机,沉积的膜易于均匀。

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