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二氧化硅

名称： 二氧化硅（SiO2）

经验告诉我们，氧离子助镀（IAD)SiO将是SiO2薄膜可再现性问题的一个解决方法，并且能在生产环境中以一个可以接受的高速度蒸着薄膜.

SiO2薄膜如果压力过大，薄膜将有气孔并且易碎，相反压力过低薄膜将有吸收并且折射率变大，POF收缩袋公司，需要充分提供高能离子或氧离子以便得到合乎需要的速度和特性

SiO2用于防反膜，冷光膜，滤光片，POF收缩袋生产商，绝缘膜，眼镜膜，紫外膜.

透光范围（nm) 折射率（N) 550nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量

200--2000 1.46 1800-2200 电子，防反膜，增透 少，升华

无色颗粒状，折射率稳定，放气量少，和OS-10等高折射率材料组合制备截止膜，滤光片等. 次数用完API KEY 超过次数限制

将金属薄层沉积到衬底或之前获得的薄层的技术称为表面沉积。这里的“薄”是一个相对的概念，但大多数的沉积技术都可以将薄层厚度控制在几个到几十纳米尺度的范围内，分子束外延技术可以得到单一原子层的结构。

沉积技术在光学仪器（消反射膜，减反射膜，自清洁表面等）、电子技术（薄膜电阻，半导体，集成电路）、包装和现代艺术都有应用。在对薄膜厚度要求不高时，类似于沉积的技术常常被使用。例如：用电解法提纯铜，POF收缩袋厂，硅沉积，POF收缩袋，铀的提纯中都用到了类似于化学气象沉积的过程。 次数用完API KEY 超过次数限制

二氧化钛（TiO?)

TiO?由于它的高折射率和相对坚固性，人们喜欢把这种高折射率材料用于可见光和近红外线区域，但是它本身又难以得到一个稳定的结果.TiO?，Ti2O3. TiO，Ti，这些原材料氧-钛原子的模拟比率分别为：2.0，1.67，1.5，1.0，0. 后发现比率为1.67的材料比较稳定并且大约在550nm生成一个重复性折射率为2.21的坚固的膜层，比率为2的材料一层产生一个大约2.06的折射率，后面的膜层折射率接近于2.21.比率为1.0的材料需要7个膜层将折射率2.38降到2.21. 次数用完API KEY 超过次数限制