







PVD加工特点
1).PVD膜层能直接镀在不锈钢以及硬质合金上,对比较软的锌合金、铜、铁等压铸件应行化学电镀铬,然后才适合镀PVD,但是水镀后做PVD容易起泡,不良率较高;
2).典型的 PVD 涂层加工温度在 250 ℃—450 ℃之间;
3).涂层种类和厚度决定工艺时间,一般工艺时间为 3~6 小时;
4).PVD镀膜膜层的厚度为微米级,厚度较薄,一般为0.3μm~5μm,其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.3μm~1μm,因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能,并能够维持工件尺寸基本不变,真空不锈钢镀钛哪里有,镀后不须再加工;

磁控溅射是70年代在阴极溅射的基础上发展起来的一种新型溅射镀膜法,由于它有效地克服了阴极溅射速率低和电子使基片温度升高的致命弱点,因此获得了迅速的发展和广泛的应用.
1. 磁控溅射:
离子轰击靶材将靶面原子击出的现象称为溅射.溅射产生的原子沉积在基体(工件)表面即实现溅射镀膜.
磁控溅射的基本原理:
磁控溅射是在溅射区加了与电场方向垂直的磁场,信阳不锈钢镀钛哪里有,处于正交电场区E和磁场B中的电子的运动方程,

较为成熟的 PVD 方法主要有多弧镀与磁控溅射镀两种方式。多弧镀设备结构简单,容易操作。它的离子蒸发源靠电焊机电源供电即可工作,其引弧的过程也与电焊类似,金属不锈钢镀钛哪里有,具体地说,在一定工艺气压下,引弧针与蒸发离子源短暂接触,断开,使气体放电。由于多弧镀的成因主要是借助于不断移动的弧斑,在蒸发源表面上连续形成熔池,使金属蒸发后,沉积在基体上而得到薄膜层的,与磁控溅射相比,不锈钢镀钛哪里有,它不但有靶材利用率高,更具有金属离子离化率高,薄膜与基体之间结合力强的优点。

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