感应加热式蒸发镀膜
利用高频电磁场感应加热，使材料汽化蒸发在基片表面凝结成膜的技术。
优点蒸发速率大，可比电阻蒸发源大10倍左右 蒸发源的温度稳定，不易产生飞溅现象坩埚温度较低，坩埚材料对膜导污染较少缺点蒸发装置必须屏蔽造价高、设备复杂
在真空中，高能粒子轰击材料表面，使其原子获得足够的能量而逸出表面，到达衬底凝结成膜的技术。
与真发镀膜相比，溅射镀膜适用于所有（包括高熔点）材料，表面镀钛厂家报价，具有附着力强、成分可控、易于规模化生产等优点。
但其工作气压低于蒸发镀膜，因此膜层的含气量和孔隙率大于蒸发镀膜。
PVD（Physical Vapor Deition），在真空条件下，采用物理方法，表面镀钛厂家选哪家，使材料源表面气化成原子、分子或离子，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。PVD主要分为蒸镀、溅射和离子镀三大类。
蒸发镀膜
真空条件下，将镀料加热蒸发或升华，材料的原子或分子直接在衬底上成膜的技术。根据加热方法的不同主要有以下几种蒸发镀膜技术。
采用电阻加热蒸发源的蒸发镀膜技术，一般用于蒸发低熔点材料，商丘表面镀钛厂家，如铝、金、银、硫化锌、氟化镁、三氧化二铬等；加热电阻一般采用钨、钼、钽等。
可见，多弧镀膜与磁控溅射法镀膜各有优劣，为了尽可能 地发挥它们各自的性，实现互补，将多弧技术与磁控技术合而为一的涂层机应运而生。在工艺上出现了多弧镀打底，然后利用磁控溅射法增厚涂层，后再利用多弧镀达到终稳定的表面涂层颜色的新方法。
大约在八十年代中后期，出现了热阴极电子蒸发离子镀、热阴极弧磁控等离子镀膜机，应用效果很好，使TiN 涂层刀具很快得到普及性应用。
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