溅射技术:
溅射技术按产生等离子体的方式可分为:
a. 利用直流辉光放电的二极溅射;
b. 利用热丝弧光放电的三极溅射;
c. 利用射频放电的射频溅射;
d. 利用封闭跑道磁场控制辉光放电的磁控溅射.
2 磁控溅射阴极结构:
目前工业用磁控溅射装置主要是采用矩形平面磁控溅射阴极(图a)，一般使用的靶材尺寸有两种规格: VT机:长×宽×厚(450.5×120×6)mm; ZCK机: 460×100×6.圆柱形磁控溅射阴极也逐步运用到生产当中(图b)，两者相比，平面靶材的利用率只有20~30%，即利用率低.
PVD镀钛通常称谓：镀钛，镀钛厂，镀膜，真空镀钛，镀铬，镀钛加工，PVD，表面处理，钛板，表面处理加工，真空镀膜加工，表面处理，PVD涂层，模具镀钛，纳米涂层，洛阳表面不锈钢镀钛，真空电镀，表面不锈钢镀钛哪家好，零件镀钛，精密模具镀钛，冲压模具镀钛，压铸模具镀铬，耐磨涂层，真空镀钛，镀钛涂层，离子镀钛，真空涂层，表面不锈钢镀钛报价，冲棒镀钛，五金模具镀钛，塑胶模镀钛，表面不锈钢镀钛服务，纳米镀钛，金属表面处理等.
金属表面处理PVD镀钛特点：增寿、增硬、增值，并以其硬高度、高耐磨、强抗腐蚀性、抗高温、抗黏着性等的使用性能广泛应用于模具工业中。
PVD加工特点
1).PVD膜层能直接镀在不锈钢以及硬质合金上，对比较软的锌合金、铜、铁等压铸件应行化学电镀铬，然后才适合镀PVD，但是水镀后做PVD容易起泡，不良率较高；
2).典型的 PVD 涂层加工温度在 250 ℃—450 ℃之间；
3).涂层种类和厚度决定工艺时间，一般工艺时间为 3~6 小时；
4).PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.3μm～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.3μm~1μm，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，并能够维持工件尺寸基本不变，镀后不须再加工；
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