








射频溅射
采用射频电源代替直流电源,在靶和衬底间施加高频电压,溅射时,靶极会产生自偏压效应(即靶极会自动处于负电位状态),使绝缘靶的溅射得到维持。常用的频率约为13.56兆赫。
优点可以溅射所有材料,包括导体和绝缘体溅射可大规模生产
磁控溅射
磁控溅射通过在靶阴极表面引入正交电磁场,把二次电子束缚在靶表面,成螺旋状运行来增强电离效率,表面镀钛厂家怎么收费,增加离子密度和能量以增加溅射率。电源方面可同时配备直流和射频两种。

电弧蒸发镀膜
在高真空下通过两导电材料制成的电极之间产生电弧放电,利用电弧高温使电极材料蒸发。电弧源的形式有交流电弧放电、直流电弧放电和电子轰击电弧放电等形式。
优点薄膜纯度高造价低适用于具有一定导电性的难熔金属、石墨等
缺点
会飞溅出微米级的靶材料颗粒,影响薄膜质量
利用高频电磁场感应加热,使材料汽化蒸发在基片表面凝结成膜的技术。
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