







基片置于合适的位置是获得均匀薄膜的前提条件.
b、压强的大小. 为了保证膜层质量,压强应尽可能低Pr≦(Pa)
L表示蒸发源到基片的距离为L(cm)。
c、蒸发速率.蒸发速率小时,单县金属镀钛厂家,沉积的膜料原子(或分子)上立刻吸附气体分子,因而形成的膜层结构疏松,金属镀钛厂家服务,颗粒粗大,缺陷多;反之,膜层结构均匀致密,机械强度高,膜层内应力大.
d、基片的温度.在通常情况下,基片温度高时,金属镀钛厂家公司,吸附原子的动能随之增大,金属镀钛厂家多少钱,形成的薄膜容易结晶化,并使晶格缺陷减少;基片温度低时,则没有足够大的能量供给吸附原子,因而容易形成无定形态薄膜.

现有镀膜工艺,多数均要求事先对工件进行严格清洗,既复杂又费事。然而,离子镀工艺自身就有一种离子轰击清洗作用,并且这一作用还一直延续于整个镀膜过程。清洗效果,能使镀层直接贴近基体,有效地增强了附着力,简化了大量的镀前清洗工作。离子镀由于是利用高能离子轰击工件表面,使大量的电能在工件表面转换成热能,从而促进了表层组织的扩散作用和化学反应。

PVD真空镀层按照膜层应用来分类可分为装饰膜层和硬质膜层:
装饰膜层可以改善工件外观装饰性能和色泽同时使工件更耐磨耐腐蚀;硬质膜层用于提高工件的表面硬度和耐磨性,降低表面的摩擦系数,提高工件的使用寿命。
除油—去污—流水冲洗—去离子水冲洗—脱水
过清洗线后将工件挂到PVD治具上,放入烤箱烘烤干燥

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