我国的洁净室工程开始于20世纪60年代初，在70年代电子工业洁净室特别是半导体集成电路用洁净室的规划、建造开展很快，相继建成一批洁净厂房，并研制成功100级单向流洁净室;与此同时，洁净厂房用设备和资料，如过滤器，洁净工作台、层流罩、洁净烘箱、空气吹渊室、净化型传递窗等相继研制成功，并投入出产，虽然制作质量和某些工程指标与世界水平尚有差距，但已能满足国内部分需求，到20世纪70年代末我国洁净室规 划、建造和洁净工程的开展走向成熟阶段。
无尘衣、鞋、帽子等须由专人管理，并定期做清洗，清洗须在洁净室内进行，并以纯水配合清洁溶剂，并经约0.2μm过滤器为之，一般洗涤周期视清洁度等级而定，在高洁净区为2～3天，其他区域则为5天～1星期，洗涤完毕干燥后应立即密封。洗涤衣置放场所须为洁净室，备用品或新品存放柜内，正使用者则吊挂衣架上，以为方便取用。
光学微电子净化工程解决方案:
净化工程的设计过程中，湖南净化工程设计施工厂家，应加强对光学微电子行业净化工程设计方案分析了解，根据该工程是新建工程或者是旧厂房改造工程，并结合其具体的生产工艺、生产流程等要求确定其需要的洁净度、温湿度。再根据该工程的具体情况，同时还要考虑到生产厂家的经济承受能力，综合各种因素来确定采用何种净化方案，这样才可设计出一个能满足甲方生产使用要求、工程造价合理、经济节能实用的方案。
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