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       磁研磨抛光是利用磁性磨料在磁场作用下形成磨料刷，对工件磨削加工。这种方法加工，石家庄碳化硅球，质量好，层模具防锈涂层碳化硅的新价格加工条件容易控制。采用合适的磨料，加工的表面粗糙度可达到Ra0。1μm。

　　抛光过程应分开在两个工作地点完成，即粗磨加工地点和精抛加工地点分开，而且要注意清洗干净上一道工序残留在工件表面的砂粒。

　　化学抛光是材料在化学介质中让表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解，从而得到平滑面。该方法可以抛光形状复杂的工件，碳化硅的新价格可以同时抛光很多工件，。化学抛光得到的表面粗糙度一般为Ra10μm。

   

一块直径4米的碳化硅反射镜躺在中国科院长春光学精密机械与物理研究所（以下简称长春光机所）实验室中，闪闪发光。这块看似普通的镜子，却是工程中期待已久的技术突破。

　　8月21日，由长春光机所承担的国家重大科研装备研制项目“4米量级碳化硅非球面反射镜集成制造系统”通过项目验收。不久的将来，它将在国家地基大型光电系统中发挥作用。

　　这是目前国际上公开报道的大口径的碳化硅非球面反射镜，也是我国自主制造出的一面反射镜。随着这一“卡脖子”技术的，碳化硅球地址，未来，碳化硅球多少钱，“大镜子”将越来越多出现在我国国产大口径光电装备上。

　　自1609年伽利略发明天文望远镜以来，光学系统观测能力的不断提升，离不开一个关键——口径。

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纯碳化硅为无色，而工业生产之棕至黑色系由于含铁之不纯物。晶体上彩虹般的光泽则是因为其表面产生之二氧化硅保护层所致。

　　纯碳化硅是无色透明的晶体。工业碳化硅因所含杂质的种类和含量不同，而呈浅黄、绿、蓝乃至黑色，透明度随其纯度不同而异。

　　由于天然含量甚少，碳化硅主要多为人造。碳化硅_常见的方法是将石英砂与焦炭混合，利用其中的二氧化硅和石油焦，加入盐和木屑，置入电炉中，加热到2000°C左右高温，经过各种化学工艺流程后得到碳化硅微粉。