电弧蒸发镀膜
在高真空下通过两导电材料制成的电极之间产生电弧放电，利用电弧高温使电极材料蒸发。电弧源的形式有交流电弧放电、直流电弧放电和电子轰击电弧放电等形式。
优点薄膜纯度高造价低适用于具有一定导电性的难熔金属、石墨等
缺点
会飞溅出微米级的靶材料颗粒，影响薄膜质量
利用高频电磁场感应加热，使材料汽化蒸发在基片表面凝结成膜的技术。
受到电场力的吸引，接下来氮的阳离子会向飞向阴极即靶材附近，而电子则会飞向引弧针，但是由于离子的质量远远大于电子，金属镀钛厂家怎么收费，因此在受到相同电场力的情况下，电子的移动距离会大于阳离子的移动距离，于是当电子到达阳极时，离子将不会到达阴极靶面，郑州镀钛厂家怎么收费，而是在距离靶面较近的位置处富集，形成正离子堆积层，阳离子与阴极靶面的距离很小，可达微米级。根据E=U/d，可知此时空间中的电场强度极高，表面镀钛厂家怎么收费，这种极强的电场会把靶材中的电子“扯”出来。
此外，多弧镀涂层颜色较为稳定，尤其是在做 TiN 涂层时，真空镀钛厂家怎么收费，每一批次均容易得到相同稳定的金黄色，令磁控溅射法望尘莫及。多弧镀的不足之处是，在用传统的 DC 电源做低温涂层条件下，当涂层厚度达到0.3μm 时，沉积率与反射率接近，成膜变得非常困难。而且，薄膜表面开始变朦。多弧镀另一个不足之处是，由于金属是熔后蒸发，因此沉积颗粒较大，致密度低，耐磨性比磁控溅射法成膜差。
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