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真空镀膜技术是真空应用技术的一个重要分支，它已广泛地应用于光学、电子学、能源开发，理化仪器、建筑机械、包装、民用制品、表面科学以及科学研究等领域中。真空镀膜所采用的方法主要有蒸发镀、溅射镀、离子镀、束流沉积镀以及分子束外延等。此外还有化学气相沉积法如果从真空镀膜的目的是为了改变物质表面的物理、化学性能的话，这一技术又是真空表面处理技术中的重要组成部分，一块光学玻璃或石英表面上镀一层或几层不同物质的薄膜后，即可成为高反射或无反射(即增透膜)或者作任何预期比例的反射或透射材料，金属表面镀钛厂家公司，也可以作成对某种波长的吸收，而对另一种波长的透射的滤色pian。 次数用完API KEY 超过次数限制

氮化钛的结构及性能

TiN具有典型的NaCl型结构，属面心立方点阵，面心立方的顶部是氮原子，钛原子位于面心立方的(1/2，表面镀钛厂家公司，0，0)空间位置。TiN是非化学计量化合物，其稳定的组成范围为TiN0.6~TiN1.16，氮的含量可以在一定的范围内变化而不引起TiN结构的变化。TiN粉末一般呈黄褐色，超细TiN粉末呈黑色，而TiN晶体呈金黄色。TiN的晶格常数为a=4.23 nm，TiC的晶格常数为a=4.238 nm，TiO的晶格常数为a=4.15 nm，这三种物质的晶格参数非常接近，所以TiN分子中的氮原子可以被氧、碳原子以任意比取代形成固溶体，氮化钛的理化性质由氮元素的含量来决定，金属镀钛厂家公司，当氮元素含量减少时，氮化钛的晶格参数反而增大，硬度也会有显微的增大，但氮化钛的抗震性随之降低。 次数用完API KEY 超过次数限制

通过溅射工艺涂覆薄膜有几个特点：金属，项城镀钛厂家公司，合金或绝缘体可以制成薄膜材料。相同组成的薄膜可以在适当的设置条件下由多个复杂的靶材制成。通过在放电气氛中添加氧气或其他活性气体，可以生产目标材料和气体分子的混合物或化合物。可以控制目标输入电流和溅射时间，并且容易获得高精度的膜厚。与其他工艺相比，有利于生产大面积的均匀薄膜。溅射的粒子不受重力影响，并且靶和基板的位置可以自由地布置。基材与薄膜之间的粘合强度是普通气相沉积薄膜的10倍以上，并且由于溅射的粒子具有高能量，因此表面将继续在成膜表面上扩散以获得坚硬而致密的表面电影。 次数用完API KEY 超过次数限制