







与 ABI 相似,边缘照射(EI)方法也是基于检测光子穿过样品时的折射角。与 ABI 不同的是,EI 并不使用晶体,而是基于放置在样品后面和探测器前面的两套准直狭缝系统来检测折射效应。
图11 所示为同步使用的的技术,该装置由放置在样品前的个狭缝(称为样品前狭缝)和第二个狭缝(称为检测器狭缝)组成,前者用于准直光束,后者与检测器的一个像素行对齐。这两个狭缝具有相同的开口(约几十微米),但稍有错位。

在过去的十年中,人们投入了大量精力开发替代 X 射线源,它们比同步设施更便宜、更小巧,被称为"紧凑型X射线光源 (compact x-ray light sources,CXLS)",能够产生模仿同步特征的高强度X射线束。
在欧洲(如MuCLS、ThomX、STAR)和世界各地(见表2),这些光源有的已经投入运行,有的正在建设之中。其中大多数的物理原理都依赖于反康普顿散射(inverse Compton ’scattering,ICS),即超相对论电子束与激光脉冲碰撞后产生硬 X 射线的反向散射。

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