离子镀基本原理：在真空条件下，采用某种等离子体电离技术，使镀料原子部分电离成离子，同时产生许多高能量的中性原子，在被镀基体上加负偏压。这样在深度负偏压的作用下，离子沉积于基体表面形成薄膜。
九、离子镀的工艺过程：蒸发料的粒子作为带正电荷的高能离子在高压阴极（即工件）的吸引下，以很高的速度注入到工件表面。
PVD技术的应用范围及优缺点
其应用范围是：
1）碳钢、合金钢、不锈钢及钛合金等金属材料；
2）金属材料的表面硬度至少需要在HV170以上。
其优点是:
与传统磁控溅射单色PVD技术相比，双色PVD工艺更为复杂，流程更为繁杂，生产难度高，但外观效果，两种颜色的表面硬度都在HV600以上。
传统磁控溅射单色PVD技术要在实现双色效果，单县金属表面镀钛，采取的工艺措施是在整体PVD单色的基础上把需要实现另一种颜色的区域激光镭雕掉或者磨掉。
溅射镀膜基本原理：充(Ar)气的真空条件下，金属表面镀钛价格，使气进行辉光放电，这时(Ar)原子电离成离子(Ar )，离子在电场力的作用下，加速轰击以镀料制作的阴极靶材，靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。 溅射镀膜中的入射离子，一般采用辉光放电获得，在l0-2Pa～10Pa范围，金属表面镀钛多少钱，所以溅射出来的粒子在飞向基体过程中，易和真空室中的气体分子发生碰撞，使运动方向随机，沉积的膜易于均匀。
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