前烘
1）将涂布好SU8光刻胶的硅片放置在热板上，微流控光刻机公司，进行预热烘烤，去除光刻胶中的挥发性有ji溶剂，时间和温度根据光刻胶厚度进行调整。（举例说明：目标胶厚度50um ，设置温度65℃，烘烤15min，然后温度95度，烘烤15分钟）
曝光
1）将预热后的硅片放置在桌面光刻机托盘上。
2）使用相应的掩模（掩膜）放置在硅片上进行曝光，曝光时间和强度根据SU-8光刻胶的类型和厚度进行调整。（举例说明：目标胶厚度50um，微流控光刻机设计，设置曝光能量25mw/cm2，时间12s）
后烘
将曝光后的硅片放置在热板上，进行后曝光烘烤，以确保光刻胶的交联反应完成。（举例说明：目标胶厚度50um，设置温度65℃，烘烤7min，然后温度95℃，烘烤3min）
六、显影
将硅片放入显影剂中，使未曝光部分的光刻胶溶解，形成模具的图案。（显影时间根据光刻胶厚度和显影剂浓度进行调整，此处显影时间20min）
清洗
将显影后的硅片用异bing醇溶剂进行清洗，去除多余的光刻胶。
检查
使用显微镜检查制备的SU-8模具，微流控光刻机介绍，测试观察制备的微结构尺寸，确认图案的清晰度和质量。
SU8模具加工设备介绍
SU8模具加工设备是一种的精密蚀刻机，采用高精度数控系统进行操作。该设备的优点包括、稳定和的切割能力以及的性能指标和工作稳定性等特点。其工艺范围广，可以适应多种图形微小型零件的制作，是制作UV软硬结合模的机型，特别适合电子行业如手机、数码相机及半导体发光器件等行业使用具有投资小、快；效益高等特点.
顶旭微控技术有限公司
使用方法
该设备操作简单，微流控光刻机，易于上手，具体操作如下：
一、曝光前准备工作
1、硅片处理：确保待曝光硅片经过匀胶处理，表面干净平整，没有明显的污渍或破损。
2、选择光刻板：根据项目需要，选择合适尺寸的光刻板，本设备兼容4英寸、5英寸或6英寸。
3、设备检查：仔细检查设备，确保所有部件处于正常工作状态，确保操作环境良好。
二、曝光操作步骤
1、安装硅片：将待曝光硅片平放在设备的载台上，确保位置准确。
2、放置光刻板：将光刻板平放在硅片上方，如果使用菲林掩膜，需要在其上方放置透明玻璃以保持平稳。
3、设定曝光参数：使用控制面板设置曝光时间和强度，根据具体需求进行调整。
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