金属及半导体材料的生产经常会用到石墨粉坩埚，为了让金属和半导体材料达到一定的纯度，减少杂质的数量，要求使用含碳量很高，杂质很低的石墨粉。这时在加工时就需要对石墨粉进行杂质去除。
生产石墨粉时，从原材料的选择上就应该开始严格的控制杂质的含量，要选择灰份低的原材料，并在加工石墨粉过程中防止增加杂质。很多杂质元素的氧化物在高温的情况下在不断分解和蒸发，从而保证生产出来的石墨粉的纯度。
在生产一般石墨粉化产品时，炉芯温度达到2300℃左右，残留杂质含量为0.1%—0.3%左右。如果将炉芯温度提高到2500-3000℃，那残留杂质含量将会大大减少。生产石墨粉产品时，电阻料及保温料通常使用低灰分的石油焦。
石墨良好的化学稳定性、耐腐蚀性、导热性，被广泛用于石油化工、湿法冶金、酸碱生产、合成纤维、造纸等工业部门，用于制作热交换器、反应槽、凝缩器、燃烧塔、吸收塔、冷却器、加热器、过滤器、泵等设各。石墨具有良好的中子减速性能，原子反应堆中用作减速剂，铀一石墨反应堆是目前应用较多的一种原子反应堆。在工业中石墨可用于制造固体燃料火箭的喷嘴，鼻锥，宇宙航行设备的零件，隔热材料和防射线材料。
鳞片石墨呈鳞片状、薄叶片状晶质的石墨，大小一般为(1.0～2.0)×(0.5～1.0)mm，鳞片石墨价格，大4～5mm，片厚0.02～0.05mm。鳞片愈大，经济价值愈高。多呈浸染状、片麻状分布于岩石中，具有明显的定向排列，与层面方向一致。鳞片石墨含量一般为3％～10％，高20％以上，常与古老变质岩(片岩、片麻岩)中石英，长石，透辉石等矿物共生，在火成岩与石灰岩接触带也可见到。鳞片状石墨具层状结构，其润滑性，柔韧性，耐热性和导电性能均比其他石墨好，主要用作制取高纯石墨制品的原料。
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