金属及半导体材料的生产经常会用到石墨粉坩埚，为了让金属和半导体材料达到一定的纯度，减少杂质的数量，要求使用含碳量很高，杂质很低的石墨粉。这时在加工时就需要对石墨粉进行杂质去除。
生产石墨粉时，从原材料的选择上就应该开始严格的控制杂质的含量，要选择灰份低的原材料，并在加工石墨粉过程中防止增加杂质。很多杂质元素的氧化物在高温的情况下在不断分解和蒸发，从而保证生产出来的石墨粉的纯度。
在生产一般石墨粉化产品时，炉芯温度达到2300℃左右，残留杂质含量为0.1%—0.3%左右。如果将炉芯温度提高到2500-3000℃，那残留杂质含量将会大大减少。生产石墨粉产品时，电阻料及保温料通常使用低灰分的石油焦。
即使单纯提高石墨粉化温度达到2800℃的高温，有些杂质还是很难去除的。部分公司采用缩小炉芯及提高电流密度等提高温炉的方法提取石墨粉，将石墨粉化炉产量降低，电量消耗增加，鳞片石墨报价，因此生产石墨粉时在石墨粉化炉温度达到1800℃时，通入净化气体，如通入氟利昂等氯化物和氟化物，一直在停电后继续加入数小时，这是为了防止气化的杂质反方向向炉内扩散，在通入一些氮气从石墨粉气孔中驱除剩余的净化气体，方便出炉操作。
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鳞片石墨粉的用途广泛，也是加工成其它石墨粉的原始材料。石墨矿石中含有大量的杂质矿物，特别是鳞片石墨矿石品位很低，必须经过选矿富集。浮选是石墨选矿的主要方法，但鳞片状石墨的浮选与无定形石墨有所不同。鳞片石墨矿石的品位较低，为3%~15%，但鳞片石墨的可浮性很好。鳞片石墨是一种层状结构的天然固体润滑剂，资源丰富且价格便宜。
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