SU8光刻机公司-顶旭-吉林SU8光刻机

装箱清单

1、桌面微型紫外光刻机主机 1台

2、匀胶机 1台

3、热板 2台

4、数显测厚规（千分款） 1只

5、显微镜 1台 （选配）

6、耗材：硅片、掩膜版、SU8光刻胶 （需额外购买）

顶旭（苏州）微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业，我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等全mian的微流控解决方案。

显微镜

观察头：铰链式三目观察头，30°倾斜，瞳距48～75mm目镜：超大视野目镜 10X/22无xian远平场消色差物镜：4X/0.1，10X/0.25，20X/0.4，40X/0.65转化器：四孔转换器载物台：载物台面积300×268mm，移动范围250×250mm焦距调节：同轴粗微动调焦机构，行程24mm照明系统 ：6V20W卤素灯，亮度可调滤色镜 蓝色、黄色、绿色、磨砂玻璃片

微流控芯片加工设备： 提供丰富多样的微流控芯片加工设备，涵盖SU8模具加工、PDMS芯片加工和玻璃芯片加工。可以帮助客户在自己的实验室内进行微流控芯片的快速制作，从而提高实验效率和灵活性。

SU8模具制备流程

1.备片

从化学品存放区取出清洁的硅片（确保硅片表面无尘）。

2.匀胶

1）打开匀胶机，SU8光刻机性能，将硅片放置在匀胶机托盘上，打开真空开关，SU8光刻机，确保硅片固定在托盘上不动；

2）将SU8光刻胶滴在硅片中间，根据光刻胶的厚度和制备要求设置匀胶机转速和时间。（举例说明：目标胶厚度50um，光刻胶型号：SU8-2075，1段500转8s，SU8光刻机公司，2段1800转30s）

3.前烘

1）将涂布好SU8光刻胶的硅片放置在热板上，进行预热烘烤，去除光刻胶中的挥发性有机溶ji，时间和温度根据光刻胶厚度进行调整。（举例说明：目标胶厚度50um ，设置温度65℃，烘烤15min，吉林SU8光刻机，然后温度95度，烘烤15分钟）

4.曝光

1）将预热后的硅片放置在桌面光刻机托盘上。

2）使用相应的掩模（掩膜）放置在硅片上进行曝光，曝光时间和强度根据SU-8光刻胶的类型和厚度进行调整。（举例说明：目标胶厚度50um，设置曝光能量25mw/cm2，时间12s）

微流控芯片加工设备： 提供丰富多样的微流控芯片加工设备，涵盖SU8模具加工、PDMS芯片加工和玻璃芯片加工。可以帮助客户在自己的实验室内进行微流控芯片的快速制作，从而提高实验效率和灵活性。