匀胶机
调速范围和时间：I档：50~10000转/分，时间0~999s
II档：50~10000转/分，时间0~999s适用：直径5~100mm硅片及其他材料匀胶转速稳定性：±1％胶的均匀性：±2％电极功率：40W，单相110~240V真空泵抽气速率：＞60L/min
顶旭（苏州）微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业，我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等全mian的微流控解决方案。
数显测厚规（千分款）
测量匀胶厚度量程:0~10mm
精度：0.001mm
公差：≤±0.005mm
顶旭（苏州）微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业，北京SU8光刻机，我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等全mian的微流控解决方案。不断追求卓yue，SU8光刻机哪家好，通过专ye、创新和合作，为客户创造更大的价值，共同kai创微流控领域的美好未来。
耗材
硅片
硅片没有特殊要求，SU8光刻机怎么样，单面抛光即可。制备SU8模具时在硅片抛光旋涂光刻胶。
光刻掩膜板
光刻掩膜版（又称光罩，英文为Mask Reticle），简称掩膜版，是制备SU8模具光刻工艺所使用的图形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成微结构掩膜图形，通过曝光过程将微结构图形信息转移到SU8光刻胶涂层上，实现微结构的jing确复zhi。光刻掩膜版，一般可分为菲林掩膜版和玻璃掩膜版两种。
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