微弧氧化材料表面陶瓷化机理
微弧氧化是一种在高电压、大电流下对金属材料进行表面处理的技术。由于采用了较高的电压(大于250 V),在微弧氧化处理过程中,可在样品材料表面观察到光斑(弧光)现象。光斑十分细小,表面处理微弧氧化电源,密度很大,微弧氧化电源,且无固定位置。这种细小的光斑意味着在样品材料表面形成了大量的等离子体微区,在微区内瞬间温度可达2500℃以上,压力可达数百个大气压,为上面提到的一系列化学、物理反应的进行创造了条件。利用这一环境可在材料表面生成具有一定厚度、致密的陶瓷氧化层,可用来改善材料自身的防腐、耐磨和电绝缘等特性。





由于微弧氧化技术具有上述优点和特点,因此在机械,汽车,电子,航天航空及建筑民用等工业领域有着极其广泛的应用前景。主要可用于对耐磨、耐蚀、耐热冲击、高绝缘等性能有特殊要求的铝基零部件的表面强化处理;同时也可用于建筑和民用工业中对装饰性和耐磨耐蚀要求高的铝基材的表面处理;还可用于常规阳极氧化不能处理的特殊铝基合金材料的表面强化处理。例如,高频微弧氧化电源,汽车等各车辆的铝基活塞,活塞座,汽缸及其他铝基零部件;机械、化工工业中的各种铝基模具,各种铝罐的内壁,飞机制造中的各种铝基零部件如货仓地板,滚棒,导轨等;以及民用工业中各种铝基五金产品,健身器材等。

负占空比对钛合金微弧氧化膜层的影响
恒压模式下,利用自制的多功能微弧氧化设备在Na2SiO3—Na3PO4—NaOH电解液体系中制备了钛合金陶瓷膜,微弧氧化电源生产厂家,采用扫描电镜、X射线衍射仪等考察了负占空比(dc)对钛合金微弧氧化膜厚度、表面形貌、硬度、相组成及耐蚀性的影响。结果表明:随着dc的增加,膜层厚度减小;膜层表面呈典型的多孔陶瓷结构,随dc的增大,膜层表面微孔数量减少,孔径增大且有裂纹产生;膜层相组成主要为Ti、金红石及锐钛矿TiO2,在dc=45%时基体衍射峰消失。相对基体而言,膜层的硬度及耐蚀性都具有较大的提高;随dc增加,膜层硬度增强,耐蚀性有一定程度的减弱。

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