等离子要运用在抛光上面是需要具备一定的条件才可以做抛光的，首先要产生等离子必须要有电场存在、换句通俗的话来说要有电源存在还要有被离化的物质，在抛光邻域被离化的物质就是我们的抛光盐，等离子抛光盐是个关键的介质、它也要具备两个条件，一被离化成离子轰击产品表面、二离化的酸根离子要能跟产品表面发生微反应，且是正向的作用、至少不能是负作用，只有这样才能得到等离子抛光的功效。
离子抛光技术在样件表面微观整平方面的应用
近年来，随着科技的不断发展，越来越多的技术被应用到各个领域中。其中，等离子放电原理技术在表面微观整平领域发挥着重要作用。利用这一技术，可以让放电通道更多地是在微观凸起的位置形成，从而优先去除该位置的材料，从而达到表面微观整平的效果。抛光开始阶段，粗糙度下降速度较快，但随着抛光时间的延长，该趋势逐渐减弱。通过分析离子放电原理，探究其对微观凸起位置材料的优先去除效果。研究表明，在抛光开始阶段，由于样件表面存在明显凹凸不平的状态，离子在凸起处更加集中，放电通道更多地选择在凸起的位置形成，从而使粗糙度下降速度较快。但随着抛光时间的延长，样件凹凸不平的状态得到改善，放电通道更多在微观凸起位置形成的趋势减弱，从而使粗糙度下降的速度减小。
传统金属表面处理方式往往需要借助各种设备，从机械切削、化学腐蚀到电化学处理等，过程繁琐，效率低下，且易产生环境污染。而近年来兴起的等离子抛光技术革新了金属表面处理方式，可以快速、地抛光金属表面，使其变得光滑，亮丽，达到理想的质感。等离子抛光技术是指利用离子放电原理，通过高能量的放电通道来抛光材料表面，从而实现金属表面微观整平。相比传统处理方式，等离子抛光技术适用于多种以上的金属材质，一台设备即可完成多种材质产品的抛光处理，省去了企业高昂的购机成本。此外，等离子抛光技术效率极高，一分钟即可抛光100多件产品，抛光效果镜面高亮精度可达0.002mm，粗糙度(RMS)可达0.01微米，生产效率得到大幅提升。
