什么是微弧氧化技术？
微弧氧化技术是近几年国内外发展较快的一项高新技术。
该技术的基本原理及特点：微弧氧化或微等离子体表面陶瓷化技术，镁合金微弧氧化表面要求，是指在普通阳极氧化的基础上，利用弧光放电增强并会在阳极上发生的反应。
使工件表面的金属与电解质溶液相互作用，在工件表面形成微弧放电，在高温、电场等因素的作用下，金属表面形成陶瓷膜。（内容仅供参考）
微弧氧化如何动电位极化曲线检测？
采用电化学工作站的三电极体系进行测试，测试前为了保证良好的导电性需将试样一面的陶瓷膜层打磨掉，然后浸泡于质量分数为5%的NaCl水溶液中进行测试。动电位范围设置为-0.2V~+0.4V(相对于开路电位)，镁合金微弧氧化，扫描速度为1mV/s。采用EchemAnalyst 软件对极化曲线进行Tafel 拟合得到电化学参数。
微弧氧化技术特点
1. 提高材料表面硬度
微弧氧化膜层为表面多孔（孔径为几微米）、内部致密的陶瓷层。膜层硬度高（维氏硬度可由几百至三千左右） 膜层与基体为冶金结合、厚度在几微米至几百微米之间。
2. 高耐磨性
用WC做摩擦副，铝 镁合金微弧氧化设备，摩擦率为4.9*10 -7mm3/Nm，摩擦系数0.48 提高50倍左右。
3. 高耐蚀性
耐中性盐雾腐蚀（按）≥400h ，可做至≥800h膜层无明显腐蚀。
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