ZL205A微弧氧化膜层耐蚀性能研究
利用硅酸盐复合电解液体系，在ZL205A上采用微弧氧化法制备膜层。
所用的工艺参数为：恒流控制，电流密度3 A/dm^2，频率500 Hz，终止电压450 V。利用扫描电镜对该膜层的形貌及结构进行分析；对膜层的化学成分进行分析；采用极化曲线评价膜层的耐蚀性。
结果表明：所制备的微弧氧化膜层能提高ZL205A的耐蚀性。
时间对微弧氧化封孔膜层增厚的影响
在其他工艺参数相同的情况下，铝 镁合金微弧氧化设备，不同封闭时间对陶瓷膜膜层增厚的影响。封闭时间较短时，膜层增厚较少；随着时间的延长，膜层逐渐增厚；但是封闭时间过长，镁合金微弧氧化工艺，如封闭时间超过60min后，膜层增厚并不显著，而且有下降的趋势。
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微弧氧化材料表面陶瓷化机理
微弧氧化是一种在高电压、大电流下对金属材料进行表面处理的技术。由于采用了较高的电压(大于250 V)，在微弧氧化处理过程中，可在样品材料表面观察到光斑(弧光)现象。光斑十分细小，密度很大，且无固定位置。这种细小的光斑意味着在样品材料表面形成了大量的等离子体微区，在微区内瞬间温度可达2500℃以上，压力可达数百个大气压，为上面提到的一系列化学、物理反应的进行创造了条件。利用这一环境可在材料表面生成具有一定厚度、致密的陶瓷氧化层，可用来改善材料自身的防腐、耐磨和电绝缘等特性。
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