光刻胶SU-8是一种常用的负性光刻胶，通常由环氧树脂和光敏剂组成，它具有许多优点，使其在制备微结构和器件方面成为理想的选择：
高分辨率：SU-8光刻胶具有出色的分辨率，可以制备细致的微结构，适合制作小尺寸线条和微细图案。
粘附性强：SU-8光刻胶在许多基片表面具有良好的粘附性，可以在不同材料上制备微结构。
厚度可调：SU-8光刻胶可以通过多次涂覆和光刻来控制厚度，适用于制备不同厚度的微结构。
化学稳定性：SU-8光刻胶具有较高的化学稳定性，可以耐受许多溶剂和化学物质，适用于各种应用环境。
热稳定性：SU-8光刻胶在高温下具有较好的稳定性，适用于需要高温处理的制备过程。
多层光刻：SU-8光刻胶可用于多层光刻制备，能够实现更复杂的微结构和器件。
应用广泛：SU-8光刻胶在微流体器件、生物芯片、MEMS、光学器件等多个领域中得到广泛应用。
顶旭（苏州）微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业。提供丰富多样的微流控芯片加工设备，涵盖SU8模具加工、PDMS芯片加工和玻璃芯片加工。可以帮助客户在自己的实验室内进行微流控芯片的快速制作，从而提高实验效率和灵活性。
匀胶机
调速范围和时间：I档：50~10000转/分，时间0~999s
II档：50~10000转/分，显影机，时间0~999s适用：直径5~100mm硅片及其他材料匀胶转速稳定性：±1％胶的均匀性：±2％电极功率：40W，单相110~240V真空泵抽气速率：＞60L/min
顶旭（苏州）微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业，我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等全mian的微流控解决方案。
耗材
硅片
硅片没有特殊要求，单面抛光即可。制备SU8模具时在硅片抛光旋涂光刻胶。
光刻掩膜板
光刻掩膜版（又称光罩，英文为Mask Reticle），简称掩膜版，是制备SU8模具光刻工艺所使用的图形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成微结构掩膜图形，通过曝光过程将微结构图形信息转移到SU8光刻胶涂层上，实现微结构的jing确复zhi。光刻掩膜版，一般可分为菲林掩膜版和玻璃掩膜版两种。
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