微弧氧化膜的优势
微弧氧化膜与普通阳极氧化膜相比,微弧氧化技术服务, 这种膜的空隙率大大降低,从而使耐蚀性和耐磨性有了较大提高。目前,微弧氧化技术主要应用于Al、Mg、Ti 等有色金属或其合金的表面处理中。镁合金微弧氧化技术所形成的氧化膜主要由MgO 和MgAl2 O4 尖晶石相组成,总膜厚可达100 Lm以上, 具有明显的三层结构: 外部的疏松层、中间的致密层和内部的结合层。
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微弧氧化技术的发展
微弧氧化技术是北京师范大学核科学与技术学院(低能核物理研究所)(北京市辐射中心)1992年起开发的科研课题,先后得到国家教委、国家九五863高技术研究发展计划、国家自然科学基jin的大力支持。1997-1998年完成国家“863”计划项目“等离子体微弧氧化表面改性技术”,1997年12月“铝合金微弧氧化技术”通过国家教委和863组的联合鉴定。2002年微弧氧化设备获得国家重点新产品证书,2004年微弧氧化双极性大功率脉冲电源获得发明。
微弧氧化膜层的性能能够达到何种程度?
一般来讲,微弧氧化膜层是瞬间高温下生成的内部致密的陶瓷层,钛合金微弧氧化技术,膜层均具有良好的膜基结合力、硬度、耐磨耐腐蚀特性、高的绝缘性及耐高温氧化性能等。但是不同材料不同溶液不同工艺下制备的膜层性能也有差异。如,一般情况下,铝表面制备的膜层比镁合金表面制备的膜层具有更高的硬度和耐磨性,因为从生成物来看,氧化铝硬度及耐磨性均高于氧化镁,铝表面氧化膜硬度高可以达到HV3000。但是通常单纯考虑这种极限性能并不可取,微弧氧化技术,如单纯提高膜层的硬度,可能需提高膜层厚度,降低膜基结合力,对膜层整体性能不利。
因此,一般很少单独强调某种性能。只是如果有特殊要求,可以提出,整体加以调制,表面微弧氧化技术,在满足特殊需求的基础上使膜层整体具有良好性能。如,某镁合金需要耐蚀,可以根据需求对膜层厚度、溶液成分等进行调制,满足耐蚀400小时、600小时等特殊需求。

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