微弧氧化时间对表莫粗糙度的影响
微弧氧化陶瓷膜的表面粗糙度随着氧化时间的延长近似呈线性增长。这是由于氧化膜的表面粗糙度与膜层的厚度有直接关系，微弧氧化电源如何控制，而膜层的增厚过程是在极高的能量条件下陶瓷膜的重复击穿过程。在氧化初期，作用在膜层上的能量较低，产生的熔融物颗粒较少，微弧氧化电源，膜层的表面粗糙度较低；随着时间的延长，膜层表面的能量密度逐渐增大，熔融的氧化产物增多，并通过微孔喷射到表面。在电解液液淬作用下，氧化物冷却凝固，并发生多次击穿。在这种熔融、凝固、再熔融、再凝固的过程中，产生的氧化物颗粒黏附在陶瓷层表面的数量增多，从而增大了膜层表面的粗糙度。另外，在成膜过程中同时存在氧化膜的溶解过程，因此，若时间足够长，膜层在溶解过程中其表面粗糙度也会出现小幅度的下降。
微弧氧化的发展方向
在工业应用的范围内，微弧氧化氧化工艺在下面几个方向的发展是值得关注的：
①标准电解质的商业化及各种型号与系列电源的深化，100kw微弧氧化电源，并且通过复配电解质而扩展阀金属的范围，从而使微弧氧化的应用范围扩大；
②通过神经网络及相应的质量控制模型对微弧氧化工艺进行优化，工艺的改进（比如鼓入气泡以及超声波震动）；
③ 微弧氧化与其它技术的复合应用。微弧氧化电源
微弧氧化技术就是通过电源和溶液配方，让铝、镁、钛合金上生长出一层陶瓷膜层，从而拥有陶瓷的很多性能，如耐腐蚀、耐磨损、耐高压、环保。在手机中框，笔记本壳体，飞机的某些零部件，镁合金器材等领域具有广泛的应用价值。
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