微弧氧化技术的发展
微弧氧化技术是北京师范大学核科学与技术学院（低能核物理研究所）（北京市辐射中心）1992年起开发的科研课题，先后得到国家教委、国家九五863高技术研究发展计划、国家自然科学基jin的大力支持。1997-1998年完成国家“863”计划项目“等离子体微弧氧化表面改性技术”，1997年12月“铝合金微弧氧化技术”通过国家教委和863组的联合鉴定。2002年微弧氧化设备获得国家重点新产品证书，镁合金微弧氧化工艺，2004年微弧氧化双极性大功率脉冲电源获得发明。
微弧氧化采用较高的工作电压，将工作区域由普通阳极氧化的法拉第区域引入到高压放电区域。采用该技术可在铝、镁合金表面生长一层致密的陶瓷膜，这层保护膜 与基体结合力强、尺寸变化小，耐磨损、耐腐蚀、耐热冲击及绝缘性能得到极大改善，在航空、航天、机械、电子、装饰等领域有广泛应用前景。微弧氧化技术、微弧氧化电源、微弧氧化生产线
阳极氧化膜层与微弧氧化膜层的区别是什么？
由微弧氧化膜层的生长机理可知，阳极氧化是微弧氧化的初级阶段。阳极氧化发生的是化学反应，而微弧氧化除化学反应外，还伴随有电化学、高温等离子体等反应。其膜层由于是在高温下生成（瞬间高温度超过3K摄氏度），镁合金微弧氧化，膜层与基体间为冶金结合，因此与基体结合良好。另外，膜层为氧化物瞬间冷凝形成，镁合金微弧氧化加工，具有较高的致密度和硬度以及良好的耐腐蚀性能，良好的绝缘性等。但归跟到底，微弧氧化膜层与阳极氧化膜层醉的的差别在于：膜与基体的结合力，膜层内部致密性及相结构。这几种差别引起了微弧氧化膜层与阳极氧化膜层其它方面的性能差异。
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