与普通的阳极氧化膜相比， 微弧氧化膜的空隙小，微弧氧化技术原理，空隙率低，微弧氧化技术，与基质结合紧密， 且在耐蚀、耐磨性能等方面得到了很大的提高。微弧氧化技术生成的膜层综合性能优良，与基体结合牢固， 且工艺简单，对环境污染小， 目前对其生长规律、生长机理和影响因素等已经有了较为深入的研究， 在工业上得到了一定的应用，微弧氧化技术设备， 是一种具有发展潜力的镁合金表面处理技术。微弧氧化技术在现代工业中应用汇越来越广泛。
微弧氧化的发展方向
在工业应用的范围内，微弧氧化氧化工艺在下面几个方向的发展是值得关注的：
①标准电解质的商业化及各种型号与系列电源的深化，并且通过复配电解质而扩展阀金属的范围，从而使微弧氧化的应用范围扩大；
②通过神经网络及相应的质量控制模型对微弧氧化工艺进行优化，工艺的改进（比如鼓入气泡以及超声波震动）；
③ 微弧氧化与其它技术的复合应用。微弧氧化电源
微弧氧化技术又称微等离子体氧化或阳极火花沉积，PEO技术微弧氧化，实质上是一种高压的阳极氧化，是一种新型的金属表面处理技术。该工艺是在适当的脉冲电参数和电解液条件下，使阳极表面产生微区等离子弧光放电现象，阳极上原有的氧化物瞬间熔化，同时又受电解液冷却作用， 进而在金属表面原位生长出陶瓷质氧化膜的过程。
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