半导体自清洗过滤器-无锡驰业-半导体自清洗过滤器公司

产品详情：

驰业全自动清洗过滤器

单台处理水量：5-4000m3/h

工作压力：0.1-4.0Mpa

过滤器清洁时的压力损失：≤0.018Mpa

工作水温：95℃

过滤精度范围：100-3000μm

自清洗所需水量：<1%

自清洗时间：10-60秒

自清洗控制方式：压差、时间及手动

电控方式：交流三相380V/ 50Hz

控制界面：数显、旋钮、开关

壳体材质：碳钢、碳钢衬胶、304、316L、2205、2507、TA2等

滤网类型：304/316L编织网、楔形网、2205楔形网

自清洗过滤器可用于对工业水、海水、食品和制药等轻化工工业废水、循环水的过滤，以及乳化液再生、废油、液态原料等过滤处理等。在冶金工业及石化工业及电厂给排水和循环水系统和涉及到液态的介质过滤等工艺中，应用自清洗过滤器也日趋广泛，半导体自清洗过滤器，我国现代冶金企业引进的连铸水系统、高炉水系统、热轧用高压水除鳞系统、乳化液系统以及封闭的水循环系统，半导体自清洗过滤器公司，液态的介质过滤系统均大量地采用了自清洗过滤器。

自清洗过程

过滤器的自清洗过程是依靠沿着滤筒内表面做旋转运动的清洗刷和排污阀共同完成，打开的排污阀使被堵塞的滤筒内形成负压，附着在滤筒内壁的滤饼被清洗刷清扫下来因负压的关系经排污阀排出在本体外。整个清洗过程大约为30秒，半导体自清洗过滤器咨询，清洗时系统不断流。

控制方式

CY-DS-L系列自清洗过滤器操作配备差压/定时/手动三种功能，控制系统默认为压差优先，即无论在任何情况下，只要系统压差达到预定值，设备都会启动自清洗功能，从而更好的保障您的系统正常运行。