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     TURBOVAC MAG W 3200 C/CT常用于半导体工业使用的涡轮分子泵。在半导体工业，涡轮分子泵用于以下应用场合：- 蚀刻；- 溅射；- 离子注入；- CVD；- 光刻。这些应用中，经常需要抽除腐蚀性气体。需要使用配有吹扫气体设备的磁悬浮分子泵，以免轴承损坏。尤其对于金属蚀刻，涡轮分子泵的泵内可能发生沉积现象， 选用带温度控制的扩展附件在MAG 1500 C、MAG 2000 C、MAG2800和MAG 3200可以防止这种情况。与机械轴承涡轮分子泵相比，磁悬浮泵的优势在于气体流量较大时可以防止轴承过热，莱宝分子泵维修多久，能够有效地防止腐蚀性介质对磁悬浮轴承的损坏。

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Leybold TMP50德国莱宝分子泵进气法兰口DN40KF/DN63ISO-K/DN63CF，出气法兰口DN16，分别抽速可达到33 l/s /55 l/s ，转速为72000rpm，对应的控制器为Leybold NT10  NT12