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在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。因为导致臭氧层破坏的是氟氯烃中的氯原子,它被紫外线辐射击中时会分离。碳-氟键比较强,因此分离的可能性比较低。反应放热后,氟开始和碳化硅进行反应,通入等体积的干燥氮气以稀释氟气,昆明四氟化碳,使反应继续进行,生成气体通过液氮冷却的镍制捕集器冷凝,然后慢慢地气化。


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