什么是微弧氧化？微弧氧化膜层生长过程是怎样的？
微弧氧化技术(MAO)是在阳极氧化基础上发展起来的一项新技术，是在含有特定离子的电解液中，镁合金微弧氧化工艺，通过弧光放电处理和电化学氧化的共同作用，在铝、镁、钛等有色金属及其合金材料表面原位产生一层与基体结合良好的陶瓷层的表面处理技术，膜层具有耐蚀性能高、硬度高、耐磨性能好、高阻抗、绝热性能好等特点。
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微弧氧化技术特点
1. 提高材料表面硬度
微弧氧化膜层为表面多孔（孔径为几微米）、内部致密的陶瓷层。膜层硬度高（维氏硬度可由几百至三千左右） 膜层与基体为冶金结合、厚度在几微米至几百微米之间。
2. 高耐磨性
用WC做摩擦副，铝 镁合金微弧氧化设备，摩擦率为4.9*10 -7mm3/Nm，摩擦系数0.48 提高50倍左右。
3. 高耐蚀性
耐中性盐雾腐蚀（按）≥400h ，可做至≥800h膜层无明显腐蚀。
用正交试验法，对影响7075铝合金微弧氧化膜层致密性的电参数进行优化。以膜层厚度和孔隙率作为指标，以正向电压、电流密度、正占空比和脉冲频率作为因素设计，并开展了四因素三水平的正交试验。使用扫描电镜对正交试验后微弧氧化陶瓷膜层的表面形貌进行了观察；利用Image J软件对陶瓷膜层的膜层厚度及孔隙率进行测量。
结果表明：影响微弧氧化陶瓷膜层厚度的电参数顺序从大到小依次为：正向电压〉电流密度〉正占空比〉脉冲频率；
影响微弧氧化膜层孔隙率的电参数顺序从大到小依次为：正向电压〉电流密度〉正占空比〉脉冲频率；
采用综合平衡法确定的电参数的优化结果为：正向电压550V、电流密度8 A/dm^2、正占空比20%、频率400Hz。
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