时间对微弧氧化封孔膜层增厚的影响
在其他工艺参数相同的情况下,不同封闭时间对陶瓷膜膜层增厚的影响。封闭时间较短时,膜层增厚较少;随着时间的延长,膜层逐渐增厚;但是封闭时间过长,如封闭时间超过60min后,膜层增厚并不显著,而且有下降的趋势。
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微弧氧化膜层生长时,首先在基体表面发生化学反应,生成一层阳极氧化膜。当增大反应电压时,膜层厚度会进一步增加,厚度会随之增加。但是当反应电压增加到一定程度时,膜层会由于不能承受该工作电压发生放电再击穿,产生等离子放电。反应的高温将使膜层发生熔融,镁合金微弧氧化工艺,基体元素由于处在富氧环境中,镁合金微弧氧化,将形成氧化物。同时由于是在电解液中,熔融物将瞬间冷凝,在基体表面生成一层陶瓷。陶瓷膜的生成,将导致工作电压进一步升高,膜层再次被击穿,膜层厚度进一步增加。周而复始,膜层得以生长。
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微弧氧化膜的性能特点
1、硬度极高,可达1500-2000HV,比一般阳极氧化或电镀处理高许多。
2、耐磨性好。
3、耐腐蚀性好,耐中性盐雾可达2000h以上。
4、绝缘性能良好。
5、附着力良好将工件加热至300℃,铝 镁合金微弧氧化设备,立即浸入冷水中,反复数次都未发现氧化膜掉落。(内容仅供参考)
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