镁合金微弧氧化工艺-镁合金微弧氧化-日照微弧氧化电源

微弧氧化技术特点

1. 提高材料表面硬度

微弧氧化膜层为表面多孔（孔径为几微米）、内部致密的陶瓷层。膜层硬度高（维氏硬度可由几百至三千左右） 膜层与基体为冶金结合、厚度在几微米至几百微米之间。

2. 高耐磨性

用WC做摩擦副，镁合金微弧氧化加工，摩擦率为4.9*10 -7mm3/Nm，摩擦系数0.48 提高50倍左右。

3. 高耐蚀性

耐中性盐雾腐蚀（按）≥400h ，可做至≥800h膜层无明显腐蚀。

时间对微弧氧化封孔膜层增厚的影响

在其他工艺参数相同的情况下，不同封闭时间对陶瓷膜膜层增厚的影响。封闭时间较短时，膜层增厚较少；随着时间的延长，膜层逐渐增厚；但是封闭时间过长，镁合金微弧氧化，如封闭时间超过60min后，膜层增厚并不显著，镁合金微弧氧化工艺，而且有下降的趋势。

日照微弧技术有限公司秉承“真诚服务、信誉为先”的经营理念，非常注重产品质量，赢得了广大客户的一致好评，竭诚欢迎新老客户前来洽谈、惠顾！

微弧氧化膜的性能特点

1、硬度极高，可达1500-2000HV，比一般阳极氧化或电镀处理高许多。

2、耐磨性好。

3、耐腐蚀性好，耐中性盐雾可达2000h以上。

4、绝缘性能良好。

5、附着力良好将工件加热至300℃，立即浸入冷水中，铝镁合金微弧氧化，反复数次都未发现氧化膜掉落。（内容仅供参考）

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